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洞察“芯”科技 共铸“芯”未来暨中国半导体附属装备及核心零部件和电子化学品材料行业交流会顺利召开

       3月20日,由盛剑环境和6163银河.net163.am等联合主办的《洞察“芯”科技,共铸“芯”未来》暨中国半导体附属装备及核心零部件和电子化学品材料行业交流会,在上海浦东嘉里大酒店成功举行。同期,SEMICON China展于3月20-22日在上海新国际博览中心盛大开展,6163银河.net163.am在N2馆2779号展位展出。

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      本次交流会以“洞察‘芯’科技,共铸‘芯’未来”为主题,来自北方华创,格科微,华虹半导体,芯粤能,复旦微电子,ICEM、京东方、华星光电、惠科光电、维信诺、彩虹光电等140多位行业专家,共同探讨行业未来发展趋势,助力中国半导体产业健康发展。

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       会议伊始,上海市经信委副主任阮力,上海化学工业区管委会党组书记、主任马静,上海嘉定工业区党工委副书记、集团公司董事长张敏发表致辞。上海集成电路行业协会副会长、复旦微电子副总经理沈磊教授作为特邀主持人主持交流会,格科微有限公司首席运营官李文强,北方华创微电子副总裁牟昌华,上海硅产业集团执行副总裁、上海新昇及新傲科技董事长李炜,君桐资本合伙人张莉,分别从不同视角就《集成电路制造产业的自主可控与差异化竞争之路》、《集成电路核心零部件国产化解决方案进展》、《走向自主可控的中国大硅片》、《关于股权投资对推动半导体设备零部件及材料国产替代进程的思考》等话题分享见解,共同探讨中国半导体产业链在快速发展的进程中,如何应对因全球贸易摩擦等带来的诸多挑战,确保中国半导体产业链的安全稳定。

      6163银河.net163.am副总经理、集成电路材料创新联合体秘书长冯黎发表了题为《集材院平台推动集成电路材料研发产业化》的主题演讲。她表示,为了解决在CMP工艺中客户最为关心的平坦度问题——全局平坦度、边缘平坦度,集材院提出了结合实际工艺应用环境的计算模型优化方案,利用少量的工艺应用结果,拟合构建宏观仿真模型与微观机理计算,并搭配AI算法形成关键参数的构效关系分析,进而得到研发优化的方向指导,以及非标状态下的工艺结果预测。而在传统的研发范式下,这些结果需要投入大量DOE实验才能获得,耗时耗力。

      在应用服务能力方面,以抛光液测试为例,集材院能实现从测试到应用的一站式解决方案——自有的12英寸CMP量产机台(华海清科300X)与主流FAB工艺匹配,保证了测试数据具有更高的认可度;光学终点检测系统,可将服务面由硅衬底扩展至介质层与金属层;4台SDS机台搭配,可以加速抛光液组分筛选等研发工作。此外,集材院性能实验室还有丰富的测试设备,能提供材料理化性能测试。

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